真空技術在濺射鍍膜中的作用
排除雜質：在真空環境下，氣體分子的數量大大減少，能夠有效地排除空氣中的雜質，如氧氣、氮氣、水蒸氣等。這些雜質會與靶材和基底發生反應，影響薄膜的質量和性能。通過真空技術，可以創造一個高純度的環境，確保薄膜的純度和穩定性。
提高濺射效率：真空環境中，離子的運動更加自由，不受空氣阻力等因素的影響。這使得離子能夠以更高的速度和能量撞擊靶材，從而提高濺射效率。此外，真空還可以減少離子的散射和碰撞，提高離子的利用率。
控制鍍膜參數：真空技術可以精確地控制鍍膜過程中的氣壓、溫度、功率等參數。通過調節這些參數，可以實現對薄膜的厚度、成分、結構等方面的控制。例如，通過改變氣壓可以調節離子的能量和密度，從而影響薄膜的生長速度和質量。
提高薄膜質量：真空環境下制備的薄膜具有更高的純度、更好的均勻性和更低的缺陷密度。這是因為真空可以排除雜質、控制鍍膜參數，從而減少薄膜中的缺陷和雜質。此外，真空還可以減少薄膜的氧化和污染，提高薄膜的穩定性和耐久性。
